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Phenom XL G3 是飛納推出的大倉(cāng)室臺(tái)式掃描電鏡，可用于半導(dǎo)體失效分析場(chǎng)景中的封裝、焊點(diǎn)、線路板和器件表面形貌觀察。 Phenom XL G3 平均成像時(shí)間約 40 秒，可對(duì)最大 100 x 100 mm 的樣品進(jìn)行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測(cè)場(chǎng)景。設(shè)備采用 CeB6 燈絲，電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 200,000 X，分辨率優(yōu)于 8 nm，適用于日常質(zhì)檢、研發(fā)分析、失效分析和樣品測(cè)試等

Phenom ProX G7 是飛納推出的臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)，可用于建筑材料微區(qū)元素分析，幫助觀察水泥、混凝土、礦物顆粒等樣品。 Phenom ProX G7 電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 350,000 X，分辨率優(yōu)于 6 nm，采用 CeB6 燈絲，并集成掃描電鏡成像與能譜分析能力，適合形貌觀察、微區(qū)元素分析和材料研發(fā)檢測(cè)。

Phenom Pharos G2 是飛納推出的臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡，可用于鋰電材料微觀結(jié)構(gòu)觀察，幫助分析正負(fù)極材料、導(dǎo)電劑、隔膜等樣品形貌。 Phenom Pharos G2 采用肖特基熱場(chǎng)發(fā)射電子槍，電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 2,000,000 X，分辨率優(yōu)于 1.5 nm，適合對(duì)高分辨形貌、精細(xì)結(jié)構(gòu)和微納尺度特征有要求的研發(fā)與檢測(cè)場(chǎng)景

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉(cāng)室臺(tái)式掃描電鏡，可用于藥包材研發(fā)檢測(cè)，幫助觀察不同包裝材料的表面形貌、斷面結(jié)構(gòu)和缺陷特征。 Phenom XL G3 平均成像時(shí)間約 40 秒，可對(duì)最大 100 x 100 mm 的樣品進(jìn)行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測(cè)場(chǎng)景。設(shè)備采用 CeB6 燈絲，電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 200,000 X，分辨率優(yōu)于 8 nm，適用于日常質(zhì)檢、研發(fā)分析、失效分析和樣

ParticleX Battery 是飛納推出的自動(dòng)化分析系統(tǒng)，可用于鋰電池銅、鋅、鐵等金屬異物自動(dòng)識(shí)別、分析和統(tǒng)計(jì)。 ParticleX Battery 基于掃描電鏡與能譜分析方法，可自動(dòng)識(shí)別、分析和統(tǒng)計(jì)銅、鋅、鐵等金屬異物，適合鋰電池原材料、正負(fù)極材料及生產(chǎn)質(zhì)控環(huán)節(jié)的清潔度管控。